В России создан опытный образец 130 нанометрового литографа для чипов
14.08.2026
Источник: е пром В России завершена разработка литографа – установки проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с нормами 130 нм, сообщило издание CNews. Оборудование создано Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) совместно с белорусской компанией «Планар». Ключевые факты: Установка предназначена для пластин диаметром до 200 мм и проектной нормы 130 нм. Главная особенность — использование эксимерного лазера с длиной волны 193 нм, что соответствует мировым стандартам DUV-литографии. Общий бюджет опытно-конструкторских работ от Минпромторга — 5,7 млрд руб., стоимость третьего этапа — 2,46 млрд руб. Серийные поставки планируются с 2027 года. По оценке экспертов, создание установки доказывает наличие инженерных компетенций и открывает путь к нормам 90 и 65 нм. При этом от образца до промышленной эксплуатации путь еще значительный. Емкость российского рынка для таких установок оценивается в 15–25 единиц до 2030–2032 гг. с учетом износа текущего парка зарубежных машин. Производство будет штучным, мелкосерийным. Ранее ЗНТЦ уже создал серийный фотолитограф на 350 нм и установку электронно-лучевой литографии на 150 нм. |
С 01.09.2025 вступают в силу Правила технической эксплуатации объектов теплоснабжения и теплопотребляющих установок, утверждённые приказом Минэнерго России от 14.05.2025 № 511. Обновлённая форма заявления о направлении работника на проверку знаний в комиссию Ростехнадзора (в установленных случаях) размещена в разделе сайта "Проверка знаний в области энергетического надзора"
